中微公司全球首台高选择性刻蚀设备付运

该设备面向GAA、3D NAND、3D DRAM等器件工艺需求，公司称这一突破填补了国内在下一代3D半导体器件制造中关键刻蚀工艺的自主化空白。材料未披露客户名称、设备金额及后续交付安排。